电子光学超纯水解决方案

电子光学元器件制造概述

随着信息时代的到来，作为电子工业的核心—超大规模集成电路有着巨大的市场需求。在集成电路生产的几百道工序中，其80%以上需高纯水清洗。水中的各种超微量杂质都会对产品产生重要影响。因此，VLSI和 ULSI对水质的要求成为高纯水水质的极至。电子工业中其他部门对纯水和超纯水均有着广泛的需求，如彩色显像管的生产等等。

超纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一。超纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出。半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备，这是一种制取超纯水的[敏感词]工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺。
 

超纯水设备

电子工业用超纯水的应用领域

1)半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

2)超纯材料和超纯化学试剂。

3)实验室和中试车间。

4)汽车、家电表面抛光处理。

5)光电产品。

6)其他高科技精微产品。
                                                                

电子工业用超纯水设备

制备电子工业用超纯水的工艺流程

电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种：

方案一：

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15 MΩ•cm)

方案二：

预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-二级反渗透-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17 MΩ•cm)

方案三：

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18 MΩ•cm)

在电子光学超纯水设备设计上，通常采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺;或者是全膜法处理工艺：UF+二级RO+EDI+抛光混床。确保处理后出水电阻率达到18 MΩ•cm以上。

为获得电子光学行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2MΩ•cm)的理论超纯水，在普通EDI超纯水设备后，通常还装设抛光混床进行精处理。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物，由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离，不能用酸碱将它们分别再生，所以这种抛光树脂失效后，弃之不用。抛光混床又称一次性混床，一般情况用在工艺末端，用来更进一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。一般出水水质都能达到18兆欧以上，以及TOC、SiO2都有一定的控制能力。

       电子光学在生产过程中需要大量超纯水清洗，卓之家环保实业有限公司会根据客户需求为广大新老客户提供专电子工业超纯水解决方案。